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| タイトル: | Radical kinetics for polymer film deposition in fluorocarbon (C4F8, C3F6 and C5F8) plasmas |
| 著者: | Takahashi, K Itoh, A Nakamura, T    https://orcid.org/0000-0001-9008-5586 (unconfirmed)Tachibana, K |
| キーワード: | fluorocarbon film plasma polymerization low GWP alternative gas C5F8 C4F8 C3F6 radical measurement |
| 発行日: | 2000 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE SA |
| 誌名: | THIN SOLID FILMS |
| 巻: | 374 |
| 号: | 2 |
| 開始ページ: | 303 |
| 終了ページ: | 310 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/7546 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/S0040-6090(00)01160-3 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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