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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Takaoka, GH | en |
| dc.contributor.author | Nakamura, S | en |
| dc.contributor.author | Seki, T | en |
| dc.contributor.author | Matsuo, J | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T04:03:42Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T04:03:42Z | - |
| dc.date.issued | 2001 | - |
| dc.identifier.issn | 0021-4922 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/7599 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | INST PURE APPLIED PHYSICS | en |
| dc.subject | cluster ion | en |
| dc.subject | ion beam process | en |
| dc.subject | chemical etching | en |
| dc.subject | silicon surface | en |
| dc.subject | mass spectrometry | en |
| dc.title | Interaction of SF6 cluster ion beams with Si surface | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | en |
| dc.identifier.volume | 40 | - |
| dc.identifier.issue | 12B | - |
| dc.identifier.spage | L1384 | - |
| dc.identifier.epage | L1386 | - |
| dc.relation.doi | 10.1143/JJAP.40.L1384 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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