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dc.contributor.authorTokuda, Ten
dc.contributor.authorNoda, Sen
dc.date.accessioned2007-03-28T04:15:51Z-
dc.date.available2007-03-28T04:15:51Z-
dc.date.issued2000-
dc.identifier.issn0021-4922-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/7890-
dc.language.isoeng-
dc.publisherJAPAN J APPLIED PHYSICSen
dc.subjectwafer fusionen
dc.subjectGaNen
dc.subjectI-V characteristicsen
dc.titleWafer fusion technique applied to GaN/GaN systemen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleJAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERSen
dc.identifier.volume39-
dc.identifier.issue6B-
dc.identifier.spageL572-
dc.identifier.epageL574-
dc.relation.doi10.1143/JJAP.39.L572-
dc.textversionnone-
dcterms.accessRightsmetadata only access-
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