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完全メタデータレコード
DCフィールド | 値 | 言語 |
---|---|---|
dc.contributor.author | Tsuchiya, T | en |
dc.contributor.author | Hirata, M | en |
dc.contributor.author | Chiba, N | en |
dc.contributor.author | Udo, R | en |
dc.contributor.author | Yoshitomi, Y | en |
dc.contributor.author | Ando, T | en |
dc.contributor.author | Sato, K | en |
dc.contributor.author | Takashima, K | en |
dc.contributor.author | Higo, Y | en |
dc.contributor.author | Saotome, Y | en |
dc.contributor.author | Ogawa, H | en |
dc.contributor.author | Ozaki, K | en |
dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:21:10Z | - |
dc.date.available | 2007-03-28T03:21:10Z | - |
dc.date.issued | 2005 | - |
dc.identifier.issn | 1057-7157 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/7947 | - |
dc.language.iso | eng | - |
dc.publisher | IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC | en |
dc.subject | mechanical properties | en |
dc.subject | standardization | en |
dc.subject | tensile testing | en |
dc.subject | thin film | en |
dc.title | Cross comparison of thin-film tensile-testing methods examined using single-crystal silicon, polysilicon, nickel, and titanium films | en |
dc.type | journal article | - |
dc.type.niitype | Journal Article | - |
dc.identifier.jtitle | JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS | en |
dc.identifier.volume | 14 | - |
dc.identifier.issue | 5 | - |
dc.identifier.spage | 1178 | - |
dc.identifier.epage | 1186 | - |
dc.relation.doi | 10.1109/JMEMS.2005.851820 | - |
dc.textversion | none | - |
dcterms.accessRights | metadata only access | - |
出現コレクション: | 英文論文データベース |

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