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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Yagi, S | en |
| dc.contributor.author | Murase, K | en |
| dc.contributor.author | Tsukimoto, S | en |
| dc.contributor.author | Hirato, T | en |
| dc.contributor.author | Awakura, Y | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T04:20:26Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T04:20:26Z | - |
| dc.date.issued | 2005 | - |
| dc.identifier.issn | 0013-4651 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/8278 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | ELECTROCHEMICAL SOC INC | en |
| dc.title | Electroless nickel plating onto minute patterns of copper using Ti(III) redox couple | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | en |
| dc.identifier.volume | 152 | - |
| dc.identifier.issue | 9 | - |
| dc.identifier.spage | C588 | - |
| dc.identifier.epage | C592 | - |
| dc.relation.doi | 10.1149/1.1973244 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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