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タイトル: Photolithographic patterning of dendrimer monolayers and pattern-selective adsorption of linear macromolecules
著者: Yamazaki, T
Imae, T
Sugimura, H  kyouindb  KAKEN_id
Saito, N
Hayashi, K
Takai, O
キーワード: photolithographic pattering
photolithography
dendrimer
poly(propyleneimine) dendrimer
poly(amido amine) dendrimer
self-assembled monolayer
n-octa-decyltrimethoxysilane
atomic force microscopy
surface-enhanced infrared
absorption Spectroscopy
poly-/-glutamic acid
sodium hyaluronate
DNA
linear macromolecule
発行日: 2005
出版者: AMER SCIENTIFIC PUBLISHERS
誌名: JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY
巻: 5
号: 11
開始ページ: 1792
終了ページ: 1800
URI: http://hdl.handle.net/2433/8458
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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