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タイトル: Homoepitaxial growth of 4H-SiC on trenched substrates by chemical vapor deposition
著者: Chen, Y
Kimoto, T  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6649-2090 (unconfirmed)
Takeuchi, Y
Malhan, RK
Matsunami, H
キーワード: homoepitaxial growth
trenched substrate
4H-SiC
chemical vapor deposition
発行日: 2004
出版者: TRANS TECH PUBLICATIONS LTD
誌名: SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2003, PTS 1 AND 2
巻: 457-460
開始ページ: 189
終了ページ: 192
URI: http://hdl.handle.net/2433/8730
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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