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dc.contributor.authorHatta, Shinichiroen
dc.contributor.authorOhtsubo, Yoshiyukien
dc.contributor.authorMiyamoto, Sanaeen
dc.contributor.authorOkuyama, Hiroshien
dc.contributor.authorAruga, Tetsuyaen
dc.contributor.alternative八田, 振一郎ja
dc.contributor.alternative有賀, 哲也ja
dc.date.accessioned2009-12-24T06:52:45Z-
dc.date.available2009-12-24T06:52:45Z-
dc.date.issued2009-11-30-
dc.identifier.issn01694332-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/89639-
dc.description.abstractWe investigated Bi thin film growth on Ge(1 1 1) by using low-energy electron diffraction (LEED) and scanning tunneling microscopy (STM). In the submonolayer regime, adsorbed Bi atoms form patches of the (2×1) structure. However, the structure does not grow to a long-range order. Following the formation of a (1×1) monolayer (ML) film, two-dimensional (1 1 0)-orientated Bi islands grow. The film orientation changes from (1 1 0) to (1 1 1) at 6–10 ML. The (1 1 0)-oriented Bi film shows a six-domain LEED pattern with missing spots, associated with a glide-line symmetry. The hexagonal (1 1 1) film at 14 ML has a lattice constant 2% smaller than bulk Bi(1 1 1).en
dc.language.isoeng-
dc.publisherElsevieren
dc.rightsc 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.en
dc.rightsこの論文は出版社版でありません。引用の際には出版社版をご確認ご利用ください。ja
dc.rightsThis is not the published version. Please cite only the published version.en
dc.subjectBismuthen
dc.subjectGe(1 1 1)en
dc.subjectLow-energy electron diffractionen
dc.subjectScanning tunneling microscopyen
dc.subjectThin film growthen
dc.titleEpitaxial growth of Bi thin films on Ge(1 1 1)en
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleApplied Surface Scienceen
dc.identifier.volume256-
dc.identifier.issue4-
dc.identifier.spage1252-
dc.identifier.epage1256-
dc.relation.doi10.1016/j.apsusc.2009.05.079-
dc.textversionauthor-
dcterms.accessRightsopen access-
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