1. Kyoto University Research Information Repository

ブラウズ : 著者 Shimizu, W

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書誌情報ファイル
Plasma etching of SiC surface using NF3
  Tasaka, A; Takahashi, K; Tanaka, K; Shimizu, K; Mori, K; Tada, S; Shimizu, W; Abe, T; Inaba, M; Ogumi, Z; Tojo, T (2002)
  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 20(4): 1254-1260
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