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ブラウズ : 著者 Shimizu, W.

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書誌情報ファイル
Effect of oxygen concentration on the spike formation during reactive ion etching of SiC using the mixed gas plasma of NF3 and O-2
  Tasaka, A.; Watanabe, E.; Kai, T.; Shimizu, W.; Kanatani, T.; Inaba, M.; Tojo, T.; Tanaka, M.; Abe, T.; Ogumi, Z. (2007)
  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 25(2): 391-400
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