ブラウズ : キーワード O-2 addition
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Etching of high-k dielectric HfO2 films in BCl3-containing plasmas enhanced with O-2 addition Kitagawa, T; Nakamura, K; Osari, K; Takahashi, K; Ono, K; Oosawa, M; Hasaka, S; Inoue, M (2006) JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS, 45(8-11): L297-L300 |