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書誌情報ファイル
Plasma enhanced chemical vapor deposition of fluorinated amorphous carbon films on the surface with reverse tapered microstructures
  Shirafuji, T; Wada, T; Kashiwagi, M; Nakamura, T; Tachibana, K (2003)
  JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 42(7A): 4504-4509

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