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| タイトル: | Rutherford Backscattering Spectrometry Analysis of Self-Formed Ti-Rich Interface Layer Growth in Cu(Ti)/Low-k Samples |
| 著者: | Kohama, Kazuyuki Ito, Kazuhiro Mori, Kenichi Maekawa, Kazuyoshi Shirai, Yasuharu Murakami, Masanori |
| キーワード: | Cu(Ti) alloy film low-k films self-formation Rutherford backscattering spectrometry diffusion barrier |
| 発行日: | 2009 |
| 出版者: | SPRINGER |
| 誌名: | JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS |
| 巻: | 38 |
| 号: | 9 |
| 開始ページ: | 1913 |
| 終了ページ: | 1920 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/109534 |
| DOI(出版社版): | 10.1007/s11664-009-0843-y |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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