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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| ykogk02156.pdf | Abstract_要旨 | 178.96 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
| D_Yamamuka_Mikio.pdf | Dissertation_全文 | 16.13 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | A study on reaction mechanisms in chemical vapor deposition of (Ba,Sr)TiO3 films for Gbit-scale DRAM capacitors |
| その他のタイトル: | ギガビットスケールDRAMキャパシタ用(Ba, Sr)TiO3薄膜の化学気相成長における成膜反応機構に関する研究 |
| 著者: | Yamamuka, Mikio |
| 著者名の別形: | 山向, 幹雄 |
| 発行日: | 25-Mar-2002 |
| 出版者: | 京都大学 (Kyoto University) |
| 学位授与大学: | 京都大学 |
| 学位の種類: | 新制・課程博士 |
| 取得分野: | 博士(工学) |
| 報告番号: | 甲第9570号 |
| 学位記番号: | 工博第2156号 |
| 学位授与年月日: | 2002-03-25 |
| 請求記号: | 新制||工||1236(附属図書館) |
| 研究科・専攻: | 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 |
| 論文調査委員: | (主査)教授 橘 邦英, 教授 鈴木 実, 教授 斧 髙一 |
| 学位授与の要件: | 学位規則第4条第1項該当 |
| DOI: | 10.14989/doctor.k9570 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/149806 |
| 出現コレクション: | 090 博士(工学) |
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