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ApplPhysLett_78_374.pdf54.24 kBAdobe PDF見る/開く
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dc.contributor.authorYano, Hiroshien
dc.contributor.authorHirao, Taichien
dc.contributor.authorKimoto, Tsunenobuen
dc.contributor.authorMatsunami, Hiroyukien
dc.date.accessioned2006-12-25T02:30:17Z-
dc.date.available2006-12-25T02:30:17Z-
dc.date.issued2001-01-15-
dc.identifier.citationH. Yano et al., Appl. Phys. Lett. 78, 374-376 (2001)-
dc.identifier.issn0003-6951-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/24208-
dc.format.extent55537 bytes-
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoeng-
dc.publisherAmerican Institute of Physicsen
dc.rightsCopyright 2001 American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.en
dc.titleA cause for highly improved channel mobility of 4H-SiC metal-oxide-semiconductor field-effect transistors on the (11(2)over-bar0) faceen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.ncidAA00543431-
dc.identifier.jtitleApplied Physics Lettersen
dc.identifier.volume78-
dc.identifier.issue3-
dc.identifier.spage374-
dc.identifier.epage376-
dc.relation.doi10.1063/1.1340861-
dc.textversionpublisher-
dc.relation.urlhttp://link.aip.org/link/?apl/78/374-
dcterms.accessRightsopen access-
出現コレクション:学術雑誌掲載論文等

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