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dc.contributor.authorTsuji, Hen
dc.contributor.authorArai, Nen
dc.contributor.authorGotoh, Nen
dc.contributor.authorMinotani, Ten
dc.contributor.authorIshibashi, Ten
dc.contributor.authorOkumine, Ten
dc.contributor.authorAdachi, Ken
dc.contributor.authorKotaki, Hen
dc.contributor.authorGotoh, Yen
dc.contributor.authorIshikawa, Jen
dc.date.accessioned2007-03-28T05:42:30Z-
dc.date.available2007-03-28T05:42:30Z-
dc.date.issued2006-
dc.identifier.issn0034-6748-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/35200-
dc.language.isoeng-
dc.publisherAMER INST PHYSICSen
dc.titleNegative-ion implantation into thin SiO2 layer for defined nanoparticle formationen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleREVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTSen
dc.identifier.volume77-
dc.identifier.issue3-
dc.relation.doi10.1063/1.2163287-
dc.textversionnone-
dc.identifier.artnum30A510-
dcterms.accessRightsmetadata only access-
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