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タイトル: Negative-ion implantation into thin SiO2 layer for defined nanoparticle formation
著者: Tsuji, H  KAKEN_id
Arai, N
Gotoh, N
Minotani, T
Ishibashi, T
Okumine, T
Adachi, K
Kotaki, H
Gotoh, Y  kyouindb  KAKEN_id
Ishikawa, J
発行日: 2006
出版者: AMER INST PHYSICS
誌名: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS
巻: 77
号: 3
論文番号: 30A510
URI: http://hdl.handle.net/2433/35200
DOI(出版社版): 10.1063/1.2163287
リンク: Web of Science
出現コレクション:英文論文データベース

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