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完全メタデータレコード
DCフィールド | 値 | 言語 |
---|---|---|
dc.contributor.author | Hayashi, T | en |
dc.contributor.author | Ito, K | en |
dc.contributor.author | Numakura, H | en |
dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:27:00Z | - |
dc.date.available | 2007-03-28T03:27:00Z | - |
dc.date.issued | 2005 | - |
dc.identifier.issn | 0966-9795 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/3846 | - |
dc.language.iso | eng | - |
dc.publisher | ELSEVIER SCI LTD | en |
dc.subject | molybdenum silicides | en |
dc.subject | ternary alloy systems | en |
dc.subject | diffusion | en |
dc.subject | phase transformation | en |
dc.subject | electron microscopy | en |
dc.subject | scanning | en |
dc.title | Reaction diffusion of MOSi2 and Mo5SiB2 | en |
dc.type | journal article | - |
dc.type.niitype | Journal Article | - |
dc.identifier.jtitle | INTERMETALLICS | en |
dc.identifier.volume | 13 | - |
dc.identifier.issue | 1 | - |
dc.identifier.spage | 93 | - |
dc.identifier.epage | 100 | - |
dc.relation.doi | 10.1016/j.intermet.2004.06.005 | - |
dc.textversion | none | - |
dcterms.accessRights | metadata only access | - |
出現コレクション: | 英文論文データベース |

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