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| タイトル: | Reaction diffusion of MOSi2 and Mo5SiB2 |
| 著者: | Hayashi, T Ito, K Numakura, H |
| キーワード: | molybdenum silicides ternary alloy systems diffusion phase transformation electron microscopy scanning |
| 発行日: | 2005 |
| 出版者: | ELSEVIER SCI LTD |
| 誌名: | INTERMETALLICS |
| 巻: | 13 |
| 号: | 1 |
| 開始ページ: | 93 |
| 終了ページ: | 100 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/3846 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/j.intermet.2004.06.005 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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