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タイトル: Chemical reaction at high temperature and high pressure III : reaction of silicon and phosphorus at high temperature and high pressure
著者: Osugi, Jiro
Namikawa, Ryosuke
Tanaka, Yoshiyuki
発行日: 30-Oct-1966
出版者: The Physico-Chemical Society of Japan
誌名: The Review of Physical Chemistry of Japan
巻: 36
号: 1
開始ページ: 35
終了ページ: 43
URI: http://hdl.handle.net/2433/46877
出現コレクション:Vol.36 No.1

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