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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| 01588918.pdf | 892.55 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Hirai, Y | en |
| dc.contributor.author | Hafizovic, S | en |
| dc.contributor.author | Matsuzuka, N | en |
| dc.contributor.author | Korvink, JG | en |
| dc.contributor.author | Tabata, O | en |
| dc.date.accessioned | 2008-03-18T01:07:19Z | - |
| dc.date.available | 2008-03-18T01:07:19Z | - |
| dc.date.issued | 2006-02 | - |
| dc.identifier.issn | 1057-7157 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/50210 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC | en |
| dc.rights | (c)2006 IEEE. Personal use of this material is permitted. However, permission to reprint/republish this material for advertising or promotional purposes or for creating new collective works for resale or redistribution to servers or lists, or to reuse any copyrighted component of this work in other works must be obtained from the IEEE. | en |
| dc.title | Validation of X-ray lithography and development simulation system for moving mask deep X-ray lithography | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS | en |
| dc.identifier.volume | 15 | - |
| dc.identifier.issue | 1 | - |
| dc.identifier.spage | 159 | - |
| dc.identifier.epage | 168 | - |
| dc.relation.doi | 10.1109/JMEMS.2005.859191 | - |
| dc.textversion | publisher | - |
| dcterms.accessRights | open access | - |
| 出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 | |
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