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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| 01588918.pdf | 892.55 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Validation of X-ray lithography and development simulation system for moving mask deep X-ray lithography |
| 著者: | Hirai, Y    https://orcid.org/0000-0003-0835-7314 (unconfirmed)Hafizovic, S Matsuzuka, N Korvink, JG Tabata, O |
| 発行日: | Feb-2006 |
| 出版者: | IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC |
| 誌名: | JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS |
| 巻: | 15 |
| 号: | 1 |
| 開始ページ: | 159 |
| 終了ページ: | 168 |
| 著作権等: | (c)2006 IEEE. Personal use of this material is permitted. However, permission to reprint/republish this material for advertising or promotional purposes or for creating new collective works for resale or redistribution to servers or lists, or to reuse any copyrighted component of this work in other works must be obtained from the IEEE. |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/50210 |
| DOI(出版社版): | 10.1109/JMEMS.2005.859191 |
| 出現コレクション: | 学術雑誌掲載論文等 |
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