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完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Makino, O | en |
| dc.contributor.author | Sakata, K | en |
| dc.contributor.author | Yamazaki, H | en |
| dc.contributor.author | Iguchi, K | en |
| dc.contributor.author | Tachibana, A | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T03:21:46Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T03:21:46Z | - |
| dc.date.issued | 2000 | - |
| dc.identifier.issn | 0040-6090 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/5362 | - |
| dc.language.iso | eng | - |
| dc.publisher | ELSEVIER SCIENCE SA | en |
| dc.subject | ab initio electronic structure calculation | en |
| dc.subject | hydrogen-terminated Si(111) thin film | en |
| dc.subject | fluorine penetration | en |
| dc.subject | etching | en |
| dc.title | Theoretical study of penetration reaction of fluorine atoms and ions into hydrogen-terminated Si(111) thin film | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | THIN SOLID FILMS | en |
| dc.identifier.volume | 374 | - |
| dc.identifier.issue | 2 | - |
| dc.identifier.spage | 143 | - |
| dc.identifier.epage | 149 | - |
| dc.relation.doi | 10.1016/S0040-6090(00)01144-5 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
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