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| タイトル: | Theoretical study of penetration reaction of fluorine atoms and ions into hydrogen-terminated Si(111) thin film |
| 著者: | Makino, O Sakata, K Yamazaki, H Iguchi, K Tachibana, A  |
| キーワード: | ab initio electronic structure calculation hydrogen-terminated Si(111) thin film fluorine penetration etching |
| 発行日: | 2000 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE SA |
| 誌名: | THIN SOLID FILMS |
| 巻: | 374 |
| 号: | 2 |
| 開始ページ: | 143 |
| 終了ページ: | 149 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/5362 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/S0040-6090(00)01144-5 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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