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| タイトル: | Difference between C4F8 and C5F8 plasmas in surface reaction processes for selective etching of SiO2 over Si3N4 |
| 著者: | Motomura, H Imai, S Tachibana, K |
| キーワード: | FT-IR ellipsometry polymer deposition etching rate selectivity electron attachment mass spectrometry polymerized species |
| 発行日: | 2000 |
| 出版者: | ELSEVIER SCIENCE SA |
| 誌名: | THIN SOLID FILMS |
| 巻: | 374 |
| 号: | 2 |
| 開始ページ: | 243 |
| 終了ページ: | 248 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/5914 |
| DOI(出版社版): | 10.1016/S0040-6090(00)01157-3 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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