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dc.contributor.authorArai, Nobutoshien
dc.contributor.authorTsuji, Hiroshien
dc.contributor.authorAdachi, Kouichirouen
dc.contributor.authorKotaki, Hiroshien
dc.contributor.authorGotoh, Yasuhitoen
dc.contributor.authorIshikawa, Junzoen
dc.date.accessioned2008-11-17T03:00:53Z-
dc.date.available2008-11-17T03:00:53Z-
dc.date.issued2007-
dc.identifier.issn0021-4922-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/67195-
dc.language.isoeng-
dc.publisherINST PURE APPLIED PHYSICSen
dc.subjectsilver nanoparticleen
dc.subjectnegative ion implantationen
dc.subjectthermal diffusionen
dc.subjectsurface plasmon resonanceen
dc.subjecthigh-resolution Rutherford backscattering spectrometryen
dc.titleSilver negative-ion implantation into thermally grown thin SiO2 film on Si substrate and heat treatment for formation of silver nanoparticlesen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleJAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERSen
dc.identifier.volume46-
dc.identifier.issue9B-
dc.identifier.spage6260-
dc.identifier.epage6266-
dc.relation.doi10.1143/JJAP.46.6260-
dc.textversionnone-
dcterms.accessRightsmetadata only access-
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