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| タイトル: | Silver negative-ion implantation into thermally grown thin SiO2 film on Si substrate and heat treatment for formation of silver nanoparticles |
| 著者: | Arai, Nobutoshi Tsuji, Hiroshi  Adachi, Kouichirou Kotaki, Hiroshi Gotoh, Yasuhito  Ishikawa, Junzo |
| キーワード: | silver nanoparticle negative ion implantation thermal diffusion surface plasmon resonance high-resolution Rutherford backscattering spectrometry |
| 発行日: | 2007 |
| 出版者: | INST PURE APPLIED PHYSICS |
| 誌名: | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS |
| 巻: | 46 |
| 号: | 9B |
| 開始ページ: | 6260 |
| 終了ページ: | 6266 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/67195 |
| DOI(出版社版): | 10.1143/JJAP.46.6260 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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