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dc.contributor.authorTsuji, Hiroshien
dc.contributor.authorArai, Nobutoshien
dc.contributor.authorGotoh, Naoyukien
dc.contributor.authorMinotani, Takashien
dc.contributor.authorIshibashi, Toyotsuguen
dc.contributor.authorOkumine, Tetsuyaen
dc.contributor.authorAdachi, Kouichiroen
dc.contributor.authorKotaki, Hiroshien
dc.contributor.authorGotoh, Yasuhitoen
dc.contributor.authorIshikawa, Junzoen
dc.date.accessioned2008-11-17T03:00:57Z-
dc.date.available2008-11-17T03:00:57Z-
dc.date.issued2007-
dc.identifier.issn0257-8972-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2433/67199-
dc.language.isoeng-
dc.publisherELSEVIER SCIENCE SAen
dc.subjection implantationen
dc.subjectnanoparticleen
dc.subjectGermaniumen
dc.subjectnegative ionen
dc.titleGermanium nanoparticle formation in thin oxide films on Si by negative-ion implantationen
dc.typejournal article-
dc.type.niitypeJournal Article-
dc.identifier.jtitleSURFACE & COATINGS TECHNOLOGYen
dc.identifier.volume201-
dc.identifier.issue19-20-
dc.identifier.spage8516-
dc.identifier.epage8520-
dc.relation.doi10.1016/j.surfcoat.2006.02.063-
dc.textversionnone-
dcterms.accessRightsmetadata only access-
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