このアイテムのアクセス数: 0
このアイテムのファイル:
このアイテムに関連するファイルはありません。
完全メタデータレコード
| DCフィールド | 値 | 言語 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Tago, T | en |
| dc.contributor.author | Kawase, M | en |
| dc.contributor.author | Hashimoto, K | en |
| dc.date.accessioned | 2007-03-28T04:24:26Z | - |
| dc.date.available | 2007-03-28T04:24:26Z | - |
| dc.date.issued | 2000 | - |
| dc.identifier.issn | 0386-216X | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2433/7515 | - |
| dc.language.iso | jpn | - |
| dc.publisher | SOC CHEMICAL ENG JAPAN | en |
| dc.subject | chemical vapor deposition | en |
| dc.subject | alumina thin film | en |
| dc.subject | one dimensional analysis | en |
| dc.subject | temperature distribution | en |
| dc.subject | growth kinetics | en |
| dc.title | Numerical analysis method for growth kinetics of chemical vapor deposition of alumina using a non-isothermal CVD reactor | en |
| dc.type | journal article | - |
| dc.type.niitype | Journal Article | - |
| dc.identifier.jtitle | KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU | en |
| dc.identifier.volume | 26 | - |
| dc.identifier.issue | 6 | - |
| dc.identifier.spage | 763 | - |
| dc.identifier.epage | 769 | - |
| dc.textversion | none | - |
| dcterms.accessRights | metadata only access | - |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース | |
このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。