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| タイトル: | Numerical analysis method for growth kinetics of chemical vapor deposition of alumina using a non-isothermal CVD reactor |
| 著者: | Tago, T Kawase, M    https://orcid.org/0000-0003-1850-0030 (unconfirmed)Hashimoto, K |
| キーワード: | chemical vapor deposition alumina thin film one dimensional analysis temperature distribution growth kinetics |
| 発行日: | 2000 |
| 出版者: | SOC CHEMICAL ENG JAPAN |
| 誌名: | KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU |
| 巻: | 26 |
| 号: | 6 |
| 開始ページ: | 763 |
| 終了ページ: | 769 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/7515 |
| リンク: | Web of Science |
| 出現コレクション: | 英文論文データベース |
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