Characterization of porosity and dielectric constant of fluorocarbon porous films synthesized by using plasma-enhanced chemical vapor deposition and solvent process

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タイトル:	Characterization of porosity and dielectric constant of fluorocarbon porous films synthesized by using plasma-enhanced chemical vapor deposition and solvent process
著者:	Takahashi, K Mitamura, T Ono, K Setsuhara, Y Itoh, A Tachibana, K
発行日:	2003
出版者:	AMER INST PHYSICS
誌名:	APPLIED PHYSICS LETTERS
巻:	82
号:	15
開始ページ:	2476
終了ページ:	2478
URI:	http://hdl.handle.net/2433/7548
DOI(出版社版):	10.1063/1.1567050
リンク:	Web of Science
関連リンク:	http://hdl.handle.net/2433/7548
出現コレクション:	英文論文データベース

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