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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| KJ00004808444.pdf | 151.04 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | Si/金属界面での低温化学反応と電子状態(「表面電子系の理論」報告,基研短期研究会) |
| 著者: | 平木, 昭夫  |
| 著者名の別形: | Hiraki, Akio |
| 発行日: | 20-Jun-1976 |
| 出版者: | 物性研究刊行会 |
| 誌名: | 物性研究 |
| 巻: | 26 |
| 号: | 3 |
| 開始ページ: | C41 |
| 終了ページ: | C43 |
| 記述: | この論文は国立情報学研究所の電子図書館事業により電子化されました。 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/89192 |
| 出現コレクション: | Vol.26 No.3 |
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