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タイトル: Epitaxial growth of Bi thin films on Ge(1 1 1)
著者: Hatta, Shinichiro  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0001-5034-5187 (unconfirmed)
Ohtsubo, Yoshiyuki
Miyamoto, Sanae
Okuyama, Hiroshi  kyouindb  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-6031-0612 (unconfirmed)
Aruga, Tetsuya  KAKEN_id  orcid https://orcid.org/0000-0002-4276-0679 (unconfirmed)
著者名の別形: 八田, 振一郎
有賀, 哲也
キーワード: Bismuth
Ge(1 1 1)
Low-energy electron diffraction
Scanning tunneling microscopy
Thin film growth
発行日: 30-Nov-2009
出版者: Elsevier
誌名: Applied Surface Science
巻: 256
号: 4
開始ページ: 1252
終了ページ: 1256
抄録: We investigated Bi thin film growth on Ge(1 1 1) by using low-energy electron diffraction (LEED) and scanning tunneling microscopy (STM). In the submonolayer regime, adsorbed Bi atoms form patches of the (2×1) structure. However, the structure does not grow to a long-range order. Following the formation of a (1×1) monolayer (ML) film, two-dimensional (1 1 0)-orientated Bi islands grow. The film orientation changes from (1 1 0) to (1 1 1) at 6–10 ML. The (1 1 0)-oriented Bi film shows a six-domain LEED pattern with missing spots, associated with a glide-line symmetry. The hexagonal (1 1 1) film at 14 ML has a lattice constant 2% smaller than bulk Bi(1 1 1).
著作権等: c 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.
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URI: http://hdl.handle.net/2433/89639
DOI(出版社版): 10.1016/j.apsusc.2009.05.079
出現コレクション:学術雑誌掲載論文等

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