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| 書誌情報 | ファイル |
|---|---|
| Homoepitaxy of 4H-SiC on trenched (0001) Si face substrates by chemical vapor deposition Chen, Y; Kimoto, T; Takeuchi, Y; Malhan, RK; Matsunami, H (2004) JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 43(7A): 4105-4109 | |
| Robust 4H-SiC pn diodes fabricated using (1120) face Negoro, Y; Kimoto, T; Matsunami, H (2004) JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 43(2): 471-476 |