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| ファイル | 記述 | サイズ | フォーマット | |
|---|---|---|---|---|
| ykogr03737.pdf | Abstract_要旨 | 230.34 kB | Adobe PDF | 見る/開く |
| D_Miyazaki_Takashi.pdf | Dissertation_全文 | 10.46 MB | Adobe PDF | 見る/開く |
| タイトル: | LSI製造における薄膜プロセス起因の欠陥発生メカニズムとその抑制に関する研究 |
| 著者: | 長田, 芳裕  |
| 著者名の別形: | Osada, Yoshihiro |
| 発行日: | 24-Mar-2003 |
| 出版者: | 京都大学 (Kyoto University) |
| 学位授与大学: | 京都大学 |
| 学位の種類: | 新制・論文博士 |
| 取得分野: | 博士(工学) |
| 報告番号: | 乙第11216号 |
| 学位記番号: | 論工博第3737号 |
| metadata.dc.date.granted: | 2003-03-24 |
| 請求記号: | 新制||工||1285(附属図書館) |
| 論文調査委員: | (主査)教授 松波 弘之, 教授 鈴木 実, 教授 藤田 靜雄 |
| 学位授与の要件: | 学位規則第4条第2項該当 |
| DOI: | 10.14989/doctor.r11216 |
| URI: | http://hdl.handle.net/2433/148909 |
| 出現コレクション: | 090 博士(工学) |
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