Skip navigation
ホーム
ブラウズ
研究科等一覧
ブラウズ:
タイトル
著者
発行日
キーワード
分類
資料種別
アクセスランキング
アクセス統計
京都大学
図書館機構
統計
アクセスランキング
アクセス統計
リンク
京都大学
図書館機構
Language
日本語
English
マイ・リポジトリ
購読情報編集
利用者情報編集
Kyoto University Research Information Repository
検索
検索対象:
リポジトリ全体
090 工学研究科・工学部 = 090_Graduate School of Engineering
Cue : 京都大学電気関係教室技術情報誌 = Cue (Information Magazine)
Memoirs of the College of Engineering, Kyoto Imperial University
Memoirs of the Faculty of Engineering, Kyoto University
traverse --新建築学研究 : kyoto university architectural journal
京都大学大学院工学研究科技術部報告集
名誉教授 = Professor Emeritus
Chaos Memorial Symposium in Asuka
カオス研究の経緯と将来展望 = Chaos Researhs by Prof. Ueda
IUTAM Symposium on 50 Years of Chaos : Applied and Theoretical
Proceedings of the 20th working conference of the IFIP WG7.5 on Reliability and Optimization of Structural Systems
Japan-China Workshop on Analysis and Optimization of Large-scale Structures
国際交流ニューズレター = Newsletter, Graduate School and Faculty of Engineering Kyoto University
人融知湧 : 社会基盤工学専攻・都市社会工学専攻ニュースレター
英文論文データベース = Graduate School of Engineering Literature Database
学術雑誌掲載論文等 = Journal Articles
教材
研究データ = Research Data
検索語
適用済条件:
タイトル
著者
キーワード
発行日
分類
資料種別
等しい
含む
ID
等しくない
含まない
ID以外
タイトル
著者
キーワード
発行日
分類
資料種別
等しい
含む
ID
等しくない
含まない
ID以外
タイトル
著者
キーワード
発行日
分類
資料種別
等しい
含む
ID
等しくない
含まない
ID以外
検索をやり直す
検索条件の追加:
検索条件を追加することで検索結果を絞り込むことができます。
タイトル
著者
キーワード
発行日
分類
資料種別
等しい
含む
ID
等しくない
含まない
ID以外
検索結果表示: 11-20 / 24.
前
1
2
3
次
検索結果:
書誌情報
ファイル
Effects of O-2 gas on reaction mechanisms in the chemical vapor deposition of (Ba,Sr)TiO3 thin film
Yamamuka, M; Momose, S; Nakamura, T; Tachibana, K; Takada, H (2002)
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 41(4A): 2231-2240
Composition control of manganite perovskites in metalorganic chemical vapor deposition with in situ spectroscopic monitoring
Nakamura, T; Tai, R; Nishimura, T; Tachibana, K (2005)
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 97(10)
Diagnosis of oxidation reactions in metalorganic chemical vapor deposition of (Ba,Sr)TiO3 films by in situ Fourier transform infrared spectroscopy
Momose, S; Sahara, R; Nakamura, T; Tachibana, K (2001)
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 40(9B): 5501-5506
Quantum chemical study on chemical vapor deposition source molecules for the deposition of (Ba,Sr)TiO3 films: Infrared band identifications by density functional calculations
Nakamura, T; Tachibana, K (2001)
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 40(1): 338-345
Effects of gas-phase thermal decompositions of chemical vapor deposition source molecules on the deposition of (Ba, Sr)TiO3 films: A study by in situ Fourier transform infared spectroscopy
Momose, S; Nakamura, T; Tachibana, K (2000)
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 39(9B): 5384-5388
Reaction mechanism of alkoxy derivatives of titanium diketonates as source molecules in liquid source metalorganic chemical vapor deposition of (Ba,Sr)TiO3 films: A study by in situ infrared absorption spectroscopy
Nakamura, T; Momose, S; Sahara, R; Tachibana, K (2002)
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 41(11B): 6624-6627
Microdischarge optical emission spectroscopy as a novel diagnostic tool for metalorganic chemical vapor deposition of (Ba,Sr)TiO3 films
Momose, S; Nakamura, T; Tachibana, K (2000)
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 39(2A): 555-559
Metalorganic chemical vapor deposition of magnetoresistive manganite films exhibiting electric-pulse-induced resistance change effect
Nakamura, T; Tai, R; Tachibana, K (2006)
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 99(8)
Formation mechanism of strontium and titanium oxide films by metalorganic chemical vapor deposition: An isotopic labeling study using O-18(2)
Nakamura, T; Momose, S; Tachibana, K (2001)
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 40(11): 6619-6622
Radical kinetics for polymer film deposition in fluorocarbon (C4F8, C3F6 and C5F8) plasmas
Takahashi, K; Itoh, A; Nakamura, T; Tachibana, K (2000)
THIN SOLID FILMS, 374(2): 303-310
絞り込み
著者
23
0000-0001-9008-5586
8
Momose, S
7
Tai, R
6
Nishimura, T
2
Sahara, R
2
Shirafuji, T
1
Homma, K
1
Itoh, A
1
Kashiwagi, M
1
Motomura, H
.
次 >
キーワード
6
(Ba,Sr)TiO3
5
Ti(t-BuO)(2)(DPM)(2)
4
liquid-source MOCVD
4
Sr(DPM)(2)
3
C5F8
3
chemical vapor deposition
3
DRAM
3
MOCVD
2
in situ FT-IR spectroscopy
2
microdischarge optical emission s...
.
次 >
発行日
2
2007
2
2006
4
2005
3
2004
1
2003
5
2002
4
2001
3
2000